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標準編號：GB/T 24575-2009硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次離子質(zhì)譜檢測方法
標準狀態(tài)：現(xiàn)行
標準簡介：本標準規(guī)定了硅和外延片表面Na、Al、K 和Fe的二次離子質(zhì)譜檢測方法。本標準適用于用二次離子質(zhì)譜法(SIMS)檢測鏡面拋光單晶硅片和外延片表面的Na、Al、K 和Fe每種金屬總量。本標準檢測的是每種金屬的總量,因此該方法與各金屬的化學和電學特性無關(guān)。本標準適用于所有摻雜種類和摻雜濃度的硅片。本標準特別適用于位于晶片表面約5nm 深度內(nèi)的表面金屬沾污的檢測。本標準適用于面密度范圍在(109~1014)atoms/cm2 的Na、Al、K 和Fe的檢測。本方法的檢測限取決于空白值或計數(shù)率*限,因儀器的不同而不同。
英文名稱： Test method for measuring surface sodium,aluminum,potassium,and iron on silicon and epi substrates by secondary ion mass spectrometry
中標分類： 冶金>>半金屬與半導體材料>>H80半金屬與半導體材料綜合
ICS分類： 電氣工程>>29.045半導體材料
采標情況： MOD SEMI MF 1617-0304
發(fā)布部門： 中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局 中國國家標準化管理委員會
發(fā)布日期： 2009-10-30
實施日期： 2010-06-01
*發(fā)日期： 2009-10-30
提出單位： 全國半導體設(shè)備和材料標準化技術(shù)委員會
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